| Vortragender: | Dr. Jörg Petschulat |
| Institution: | Leiter der Entwicklungsabteilung ZEISS Semiconductor Mask Solutions |
| Datum: | Mittwoch, 27. März 2024 |
| Zeit: | 11:00 - 11:45 Uhr |
| Raum: | V3 |
| Beitrags-Nr.: | VP 27-003 |
EUV steht für „extrem ultraviolett“, also Licht mit extrem kurzer Wellenlänge, das in der Halbleiterfertigung bei der Belichtung feinster Chipstrukturen auf den sogenannten Wafern zum Einsatz kommt. Beim Lithographie-Verfahren werden Leiterbahnen auf modernste Chips aufgebracht, die wenige Nanometer breit sind, fünftausend Mal dünner als ein menschliches Haar. Mit dieser extrem hochauflösenden Technologie lassen sich weitaus leistungsfähigere, energieeffizientere und kostengünstigere Mikrochips herstellen als bisher. Ohne weiterhin stark steigende Rechenleistung gäbe es keine erfolgreiche Digitalisierung: Heute hat bereits ein Smartphone die millionenfache Rechenpower des Computers, der 1969 die erste Mondlandung begleitete. Ermöglicht wird dies durch einen kaum fingerkuppengroßen Mikrochip, auf dem sich bei den neuesten Chips rund sechzehn Milliarden Transistoren befinden. Die mit über 2.000 Patenten abgesicherte Zukunftstechnologie bildet die Basis für den künftigen technischen Fortschritt und die Digitalisierung unseres Alltags. Sie ist ein Beispiel dafür, welcher technologische und ökonomische Mehrwert durch Kooperation, Forschergeist und nachhaltiges Engagement erreichbar ist.
ZEISS hat für die EUV-Lithographie-Maschine ein optisches System geschaffen, das aus Spiegeln aufgebaut ist, die im Vakuum hochpräzise gehalten werden. Das System musste komplett neu entwickelt werden, weil herkömmliche Linsensysteme und sogar Luft EUV-Licht absorbieren. Würde ein Laserstrahl über einen dieser EUV-Spiegel umgelenkt und auf den Mond gerichtet, könnte man damit einen Golfball auf der Mondoberfläche treffen.